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真空爐的脫氣原理
脫氣是在真空中材料緩慢蒸發(fā)的現(xiàn)象，是在真空性能上主要的問題。任何的固體材料表面都有可能附著氣體和液體堆積形成的分子層。由于壓力的逐漸降低這些分子層會逐漸蒸發(fā)，因為這些表面的能量小于真空發(fā)出的能量。氮、揮發(fā)性溶劑和惰性氣體脫氣速度要快一些，油和水蒸氣會繼續(xù)附著在表面，幾小時后才會蒸發(fā)。多孔材料、灰塵顆粒和其他自然物質(zhì)會增加表面積，所以有可能引起更多的脫氣出現(xiàn)。輻射和溫度會提供足夠的能量使吸收分子脫離表面。爐子的溫度升高后可以釋放出低溫時附著在表面的分子。所以，隨著爐子溫度的升高，脫氣現(xiàn)象會逐漸增多。
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